HP hat erstmals Technologien zur Herstellung von Halbleiter-Chips lizenziert, deren Strukturen nur noch 15 Nanometer betragen (ein Nanometer entspricht ein Millionstel Millimeter). Zentraler Bestandteil ist ein Prozess namens Nanoimprint-Lithographie (NIL). Hierbei werden Muster für die auf dem Substrat liegenden Drähte ausgestanzt, die dünner als 50 Atome sind.